Chrome sputtering mira Ta 'l-Gass inert

- May 10, 2017 -

Chrome mira sputtering

1) Chrome prin ipju mira sputtering:

Field manjetika orthorhombic u kamp elettriku huma applikati bejn il-mira sputtering (cathode) u l-anodu, u l-gass inerti me tie a (normalment gass Ar) hija imposta fil-kamra tal-vakum g olja. Il b'kalamita permanenti jifforma 250-350 fuq il-wi tal-mira materjal kamp manjetiku Gaussian, bl-kamp elettriku ta 'vulta g oli mag mul minn kamp elettromanjetiku ortogonali. Ta t l-azzjoni tal-kamp elettriku, gass Ar ji i jonizzat fis b'jonji posittivi u elettroni, il-mira hija mi juda ma ' ertu pressjoni g olja negattiva, l-elettroni emessi mill-mira huma affettwati mill-kamp manjetiku u l-probabbiltà jonizzazzjoni ta - idiet tal-gass li ja dmu , li tifforma pla ma densità g olja fil-vi inanza tal-Korp katodu, joni Ar fir-rwol tal-forza Lorentz biex i affu l-titjira g all-wi fil-mira, fi bumbardament b'velo ità g olja tal-wi fil-mira, sabiex il-sputtering 'l-atomi mira jsegwu -prin ipju konver joni momentum b'ener ija kinetika g olja mill-mira jtir il sottostrat huwa depositat u ddepo itat. sputtering magnetron huwa eneralment maqsum f' ew tipi: sputtering DC u RF sputtering, apparat tixrid DC li huwa sempli i fil-prin ipju, fil-sputtering ta 'metall, rata tag ha hija wkoll mg a el. L-u u ta 'RF sputtering hija aktar estensiva, minbarra l sputtering materjal li jikkondu i, i da sputtering wkoll materjali mhux konduttivi, i da wkoll tista' tkun preparazzjoni sputtering reattiv ta 'ossidi, nitridi u karburi u komponenti o ra. Jekk il-frekwenza tal-frekwenza tar-radju wara l sputtering pla ma microwave, u issa, komunement u at re onanza Cyclotron elettroniku (ECR) tip sputtering pla ma microwave

2) ispe i fil-mira sputtering Chrome:.

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